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《一种晶体硅太阳能电池片扩散方法》使用氢氟酸或对硅片表面进行油污清洗及制绒，将清洗制绒后的硅片

放置于立式扩散炉内进行扩散，扩散工艺包括以下步骤：（1）入炉：将放置有晶体硅片的石英舟匀速入炉；（2

）抽真空：抽真空后炉腔内的压力为300±50mTorr；（3）真空检漏：对炉腔进行漏率检测；（4）氧化：低压进

行氧化；（5）**次磷源扩散：低压进行**次磷源扩散；（6）升温；（7）*二次磷源扩散：低压进行*二

次磷源扩散；（8）磷杂质推进：低压进行磷杂质推进；（9）降温；（10）出炉。采用上述的扩散方法，在扩散

过程中，提高了杂质的分子自由程和晶体硅片扩散的均匀性，晶体硅太阳能电池片的转换效率高，操作简单，产

量大，成本低。

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